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近日，据可靠业内消息，台积电南京厂向中微半导体设备（上海）股份有限公司抛出“橄榄枝”，下单采购10台5nm介质刻蚀机，这些设备预计在2026年第一季度完成交付。这一消息，无疑在半导体行业激起千层浪，标志着中微公司在全球半导体设备市场的地位再度攀升。
台积电是全球晶圆代工龙头，对设备供应商筛选极为严苛，技术、质量与稳定性缺一不可。中微公司凭借多年技术创新与研发投入，成功打入台积电5nm制程供应链。
早在2018年底，中微自主研发的5nm等离子体刻蚀机就通过台积电验证，性能优异。经过数年打磨优化，如今终于收获订单，证明了其技术成熟可靠。
回顾中微公司的发展历程，可谓是一部波澜壮阔的奋斗史。从最初的65nm等离子介质蚀刻机起步，中微公司的研发团队凭借着深厚的技术积累和勇于创新的精神，一步一个脚印，逐步攻克了45nm、32nm、28nm、16nm、10nm、7nm等关键制程技术。每一次技术跨越，都凝聚着研发人员的智慧与心血，都是中微公司不断突破自我、追求卓越的见证。
在中微公司辉煌成就的背后，有一位关键人物——尹志尧。他1944年出生于北京，自幼勤奋好学，凭借着优异的成绩考入中国科学技术大学化学物理系，后又攻读北京大学化学系硕士、美国加州大学洛杉矶分校物理化学博士。
在半导体行业，尹志尧堪称传奇人物。他曾在英特尔、泛林半导体和应用材料等国际知名半导体企业任职，积累了丰富的行业经验和技术知识，是几代等离子体刻蚀技术及设备的主要发明人和工业化应用的推动者之一，拥有86项美国专利和200多项各国专利，被誉为“硅谷最有成就的华人之一”。
然而，尽管在美国取得了辉煌的成就，尹志尧心中始终怀揣着对祖国的热爱和对中国半导体事业发展的期望。2004年，60岁的他做出了一个令人震惊的决定：放弃美国的高薪工作和优越的生活条件，毅然回国创办中微半导体设备有限公司。
中微半导体设备（上海）股份有限公司成立于2004年，是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司。公司专注于高端半导体设备的研发与制造，产品涵盖刻蚀设备、薄膜沉积设备等，技术覆盖5纳米及以下先进制程。中微公司坚持“三维发展”战略，在技术创新、产品优化和市场准入方面取得重大突破，刻蚀设备全球市占率持续提升，已成为国产半导体设备领域的龙头企业，为全球集成电路和泛半导体行业提供极具竞争力的高端设备和服务。
据中微半导体2024发布的年度报告，创办人、董事长兼执行长尹志尧已放弃美国籍，重新恢复中国籍。
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