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微导纳米(688147.SH)：开发的国内首台成功应用于集成电路制造前道生产线的量产型High-k ALD设备

中金财经09-26

　　格隆汇9月26日丨微导纳米(688147.SH)在互动平台表示，公司是国内领先的ALD设备供应商，相关产品涵盖了行业所需主流ALD薄膜材料及工艺。ALD技术在45nm以下节点以及3D结构等先进半导体薄膜沉积环节具有良好的应用前景，是半导体设备中增长最快的领域之一。公司开发的国内首台成功应用于集成电路制造前道生产线的量产型High-k ALD设备，解决了国内集成电路突破28nm制程节点最核心工艺之一的高介电常数(High-k)栅氧层薄膜工艺。公司持续拓展技术覆盖面，陆续研发和推出HKMG技术、柱状电容器、金属化薄膜沉积技术及高深宽比3D NAND、3DDRAM、TSV技术等工艺解决方案，覆盖逻辑芯片、存储芯片、先进封装、化合物半导体和新型显示(硅基OLED)中ALD技术的主要应用场景。　　　　【免责声明】本文仅代表作者本人观点，与和讯网无关。和讯网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。邮箱：news_center@staff.hexun.com 　　

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{"i18n":{"language":"zh_CN"},"data":{"share":"https://www.laohu8.com/m/news/2570500884?lang=zh_CN&edition=full","thumbnail":"","is_english":false,"pubTime":"2025-09-26 16:07","share_image_url":"https://static.laohu8.com/e9f99090a1c2ed51c021029395664489","id":"2570500884","market":"hk","top_or_hot":-1,"title":"微导纳米(688147.SH)：开发的国内首台成功应用于集成电路制造前道生产线的量产型High-k ALD设备","media":"中金财经","content":"<html><body><p>　　格隆汇9月26日丨<a href=\"https://laohu8.com/S/688147\">微导纳米</a>(688147.SH)在互动平台表示，公司是国内领先的ALD设备供应商，相关产品涵盖了行业所需主流ALD薄膜材料及工艺。ALD技术在45nm以下节点以及3D结构等先进半导体薄膜沉积环节具有良好的应用前景，是半导体设备中增长最快的领域之一。公司开发的国内首台成功应用于集成电路制造前道生产线的量产型High-k ALD设备，解决了国内集成电路突破28nm制程节点最核心工艺之一的高介电常数(High-k)栅氧层薄膜工艺。公司持续拓展技术覆盖面，陆续研发和推出HKMG技术、柱状电容器、金属化薄膜沉积技术及高深宽比3D NAND、3DDRAM、TSV技术等工艺解决方案，覆盖逻辑芯片、存储芯片、先进封装、化合物半导体和新型显示(硅基OLED)中ALD技术的主要应用场景。\r\n\r\n　　\r\n\r\n　　【免责声明】本文仅代表作者本人观点，与和讯网无关。和讯网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。邮箱：news_center@staff.hexun.com\r\n\r\n　　 </p></body></html>","source":"zhongjincaijing_highlight","html":"<!DOCTYPE html>\n<html>\n<head>\n<meta http-equiv=\"Content-Type\" content=\"text/html; charset=utf-8\" />\n<meta name=\"viewport\" content=\"width=device-width,initial-scale=1.0,minimum-scale=1.0,maximum-scale=1.0,user-scalable=no\"/>\n<meta name=\"format-detection\" content=\"telephone=no,email=no,address=no\" />\n<title>微导纳米(688147.SH)：开发的国内首台成功应用于集成电路制造前道生产线的量产型High-k ALD设备</title>\n<style type=\"text/css\">\na,abbr,acronym,address,applet,article,aside,audio,b,big,blockquote,body,canvas,caption,center,cite,code,dd,del,details,dfn,div,dl,dt,\nem,embed,fieldset,figcaption,figure,footer,form,h1,h2,h3,h4,h5,h6,header,hgroup,html,i,iframe,img,ins,kbd,label,legend,li,mark,menu,nav,\nobject,ol,output,p,pre,q,ruby,s,samp,section,small,span,strike,strong,sub,summary,sup,table,tbody,td,tfoot,th,thead,time,tr,tt,u,ul,var,video{ font:inherit;margin:0;padding:0;vertical-align:baseline;border:0 }\nbody{ font-size:16px; line-height:1.5; color:#999; background:transparent; }\n.wrapper{ overflow:hidden;word-break:break-all;padding:10px; }\nh1,h2{ font-weight:normal; line-height:1.35; margin-bottom:.6em; }\nh3,h4,h5,h6{ line-height:1.35; margin-bottom:1em; }\nh1{ font-size:24px; }\nh2{ font-size:20px; }\nh3{ font-size:18px; }\nh4{ font-size:16px; }\nh5{ font-size:14px; }\nh6{ font-size:12px; }\np,ul,ol,blockquote,dl,table{ margin:1.2em 0; }\nul,ol{ margin-left:2em; }\nul{ list-style:disc; }\nol{ list-style:decimal; }\nli,li p{ margin:10px 0;}\nimg{ max-width:100%;display:block;margin:0 auto 1em; }\nblockquote{ color:#B5B2B1; border-left:3px solid #aaa; padding:1em; }\nstrong,b{font-weight:bold;}\nem,i{font-style:italic;}\ntable{ width:100%;border-collapse:collapse;border-spacing:1px;margin:1em 0;font-size:.9em; }\nth,td{ padding:5px;text-align:left;border:1px solid #aaa; }\nth{ font-weight:bold;background:#5d5d5d; }\n.symbol-link{font-weight:bold;}\n/* header{ border-bottom:1px solid #494756; } */\n.title{ margin:0 0 8px;line-height:1.3;color:#ddd; }\n.meta {color:#5e5c6d;font-size:13px;margin:0 0 .5em; }\na{text-decoration:none; color:#2a4b87;}\n.meta .head { display: inline-block; overflow: hidden}\n.head .h-thumb { width: 30px; height: 30px; margin: 0; padding: 0; border-radius: 50%; float: left;}\n.head .h-content { margin: 0; padding: 0 0 0 9px; float: left;}\n.head .h-name {font-size: 13px; color: #eee; margin: 0;}\n.head .h-time {font-size: 11px; color: #7E829C; margin: 0;line-height: 11px;}\n.small {font-size: 12.5px; display: inline-block; transform: scale(0.9); -webkit-transform: scale(0.9); transform-origin: left; -webkit-transform-origin: left;}\n.smaller {font-size: 12.5px; display: inline-block; transform: scale(0.8); -webkit-transform: scale(0.8); transform-origin: left; -webkit-transform-origin: left;}\n.bt-text {font-size: 12px;margin: 1.5em 0 0 0}\n.bt-text p {margin: 0}\n</style>\n</head>\n<body>\n<div class=\"wrapper\">\n<header>\n<h2 class=\"title\">\n微导纳米(688147.SH)：开发的国内首台成功应用于集成电路制造前道生产线的量产型High-k ALD设备\n</h2>\n\n<h4 class=\"meta\">\n\n\n2025-09-26 16:07 北京时间&nbsp;&nbsp;&nbsp;<a href=http://sc.stock.cnfol.com/gushizhibo/20250926/31675485.shtml><strong>中金财经</strong></a>\n\n\n</h4>\n\n</header>\n<article>\n<div>\n<p>格隆汇9月26日丨微导纳米(688147.SH)在互动平台表示，公司是国内领先的ALD设备供应商，相关产品涵盖了行业所需主流ALD薄膜材料及工艺。ALD技术在45nm以下节点以及3D结构等先进半导体薄膜沉积环节具有良好的应用前景，是半导体设备中增长最快的领域之一。公司开发的国内首台成功应用于集成电路制造前道生产线的量产型High-k ALD设备，解决了国内集成电路突破28nm制程节点最核心工艺之一...</p>\n\n<a href=\"http://sc.stock.cnfol.com/gushizhibo/20250926/31675485.shtml\">网页链接</a>\n\n</div>\n\n\n</article>\n</div>\n</body>\n</html>\n","isBrief":false,"type":0,"news_type":1,"symbol":"688147","symbol_name":"微导纳米","start_time":0,"source_url":"http://sc.stock.cnfol.com/gushizhibo/20250926/31675485.shtml","article_id":"2570500884","we_media_id":null,"thumbnails":[],"rights":null,"url":"https://stock-news.laohu8.com/highlight/detail?id=2570500884","pubTimestamp":1758874022,"columns":[],"sourceInfo":{"source_id":"zhongjincaijing_highlight","name":"中金在线"},"weMediaInfo":null,"summary":"格隆汇9月26日丨微导纳米在互动平台表示，公司是国内领先的ALD设备供应商，相关产品涵盖了行业所需主流ALD薄膜材料及工艺。ALD技术在45nm以下节点以及3D结构等先进半导体薄膜沉积环节具有良好的应用前景，是半导体设备中增长最快的领域之一。公司开发的国内首台成功应用于集成电路制造前道生产线的量产型High-k ALD设备，解决了国内集成电路突破28nm制程节点最核心工艺之一的高介电常数栅氧层薄膜工艺。","collect":0,"end_time":0,"defaultTopTitle":"cnfol.com","property":[],"viewcount":null,"language":"zh","relate_stocks":{"159546":"集成电路","688147":"微导纳米","ALD":"联合资本","BK0251":"专用设备"},"translate_title":"Microconducting Nano (688147. SH): The first mass-produced High-k ALD equipment developed in China that was successfully applied to the front-end production line of integrated circuit manufacturing","themeId":null,"isJumpTheme":false,"ttsUrl":null,"symbols_score_info":{"159546":1.5,"688147":1.5,"ALD":1.5},"content_text":"格隆汇9月26日丨微导纳米(688147.SH)在互动平台表示，公司是国内领先的ALD设备供应商，相关产品涵盖了行业所需主流ALD薄膜材料及工艺。ALD技术在45nm以下节点以及3D结构等先进半导体薄膜沉积环节具有良好的应用前景，是半导体设备中增长最快的领域之一。公司开发的国内首台成功应用于集成电路制造前道生产线的量产型High-k ALD设备，解决了国内集成电路突破28nm制程节点最核心工艺之一的高介电常数(High-k)栅氧层薄膜工艺。公司持续拓展技术覆盖面，陆续研发和推出HKMG技术、柱状电容器、金属化薄膜沉积技术及高深宽比3D NAND、3DDRAM、TSV技术等工艺解决方案，覆盖逻辑芯片、存储芯片、先进封装、化合物半导体和新型显示(硅基OLED)中ALD技术的主要应用场景。\r\n\r\n　　\r\n\r\n　　【免责声明】本文仅代表作者本人观点，与和讯网无关。和讯网站对文中陈述、观点判断保持中立，不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考，并请自行承担全部责任。邮箱：news_center@staff.hexun.com","kind":"highlight","is_publish_news":true,"is_publish_highlight":false,"is_publish_live":false,"is_publish_wemedia":null,"editions":null,"column":"","sentiment":"1","news_tag":"productRelease","news_rank":0,"symbols":[],"gpt_button":1,"need_auth":false,"code":"91000000","status":"200"},"commentList":[],"hasMoreComments":false,"newsSizeData":{"likeSize":0,"commentSize":0,"repostSize":0,"favoriteSize":0,"likeStatus":false,"favoriteStatus":false},"isCrawlerRequest":true}