社区

之前介绍了这么多公司，我试试暂时不写公司了，写写公司里的人。在现代科技领域，除了创业公司破釜沉舟，坚定发展前沿科技，值得了解之外，很多科学家，创业家，或者普通公司职员，也在各自领域不断推动科技发展，这些人也非常值得认识。

这一期我想介绍一类人：他们研究着一个不被看好的课题，他们提出了一个荒谬的理论，他们不被理解，四处碰壁，但是他们坚持不懈。他们一边研究，一边推销，一边等待。最终终于一鸣惊人，成为推动时代发展的伟大的小人物。

光刻遇到瓶颈

芯片领域，谁掌握了光刻技术，谁就掌握了芯片的命脉。中国被卡脖子卡得最深的就是光刻机，现在世界上成熟工艺可以生产 3nm 芯片，但中国只能做到 28 nm。但你知不知道推动光刻机发展最重要的人其实就是一个中国（台湾）人，他叫林本坚 -- 一个到 60 岁，脑子还比新人更好使，想出的离奇方案差点被扔进垃圾桶，被人认为是疯子的天才。

光刻的意思就是用光线作为“刀具”，在硅片上刻出电路。这把“刀”越细，能雕刻的线路就越细，单位面积能设计的电路图就可以越复杂，功耗也能越低。就好比我们用更细的笔就能写出更小的字，一张纸上能记录的内容就越多，这是一个道理。这把“刀”的粗细取决于光刻所用的“光”的波长。

在 2000 年左右，光刻行业用的是波长为 193nm 的紫外光，这时已经达到了这种光源的物理瓶颈。想要再短，就得换一种全新的光源 -- 157nm 的氟气激光。这在当时是一个共识：未来的方向就是 157nm 光刻。整个产业链都在朝这个方向猛冲，英特尔，尼康等巨头们都在往里砸钱。有点像现在建数据中心搞 AI，当大家想法一致，撸起袖子加油干，向前猛冲看谁快的时候，一个中国工程师举起了手，说："等一下，我有个不成熟的想法，不知当讲不当讲。"

没人停下来听他讲

林本坚 1942 年出生于越南西贡的华人家庭，在美国俄亥俄州立大学读博。毕业后进入 IBM，一干就是 22 年。在 IBM 期间，他就是光刻领域的顶尖专家，带领团队创造了多项世界第一。2000年，58岁的林本坚做了一个重要决定：加入 $台积电(TSM)$ ，担任研发处资深处长。台积电后来封了个称号叫"六骑士"，说的是对台积电研发贡献最大的六个人，林本坚就是其中之一。

我们这里 35 岁就要被大厂嫌弃，45 岁还没被裁已经是奇迹。而 58 岁的林本坚这才刚刚加入台积电，小荷才露尖尖角，甚至都还没开始碰壁。看到这，以为接下来只能退休的我真的被鼓舞到了，也许闯的年纪还在前面向我招手？

2002 年，60 岁林本坚向大家提出了他的方案：别换光源了，也许在镜头和晶圆之间加一层水就行。原理很简单：光在水中传播速度比空气慢，等效波长会缩短。193nm 的光穿过水之后，等效波长可以降到 134nm 左右，直接跳过了你们拼了命想实现的 157nm。而且不需要换光源，不需要换光刻胶，不需要推倒重来。

物理理论上确实说得通，但工程上这个想法还是太超前了。工程师们听到这个方案的反应，基本都是：“你疯了吧，你要往几十亿美元的精密设备里灌水？你知道一粒灰尘就能毁掉整片晶圆吗？气泡怎么办？污染怎么办？水膜不均匀怎么办？"

虽然所有人都认为这不可能在工程上实现，但林本坚没有放弃。他开始了一段堪称"扫楼推销"的经历 -- 带着自己的方案，挨家挨户去敲光刻机厂商的门。

第一站尼康。 尼康是当时的光刻机霸主，全球市场份额第一。它正在 157nm 路线上全力冲刺，投入了巨额研发资金。林本坚的方案在他们眼里就像十六世纪的日心说一样属于异端思想。往光刻机里灌水都比他们现在的巨额研发管用，可以说伤害不大，侮辱很大。所以当然是没人理他。

然后是其他光刻设备商和研究机构，有的礼貌微笑然后送客，有的直接表示"这不可能工程化"，有的甚至懒得听完。这些反对林本坚方案的都是光刻领域最顶尖的专家，他们的反对是有重量的。于是在各种国际光刻会议上，林本坚的浸润式方案经常遭到公开质疑甚至冷嘲。整个行业对他的态度可以总结为：想法有趣，物理没错，但工程上不可能。

这时的林本坚还有一个优势：他背后是台积电。台积电是全球最大的芯片代工厂，它是光刻机厂商最重要的客户。当全世界最大的甲方说"我们认为这个方向值得一试"的时候，终于还是有乙方跳出来接了这个球。

ASML 的豪赌

跟尼康相比，当时的 $阿斯麦(ASML)$ 只是一家荷兰小公司，在光刻市场上还没有那么起眼。所以它的优势就在于“错误”方向上的技术投入和积累没有尼康陷得这么深，也就更愿意试试别的方向。反正那条赛道已经追不上了，现在有人提出新的赛道，那我何不试试就试试。（听起来有那么一点像**最近提出 τ 定律，也是想换个赛道竞争）

于是，台积电提供核心方案和验证需求，ASML负责工程实现和设备制造，双方联手开发浸润式光刻机。接下来的过程当然不是一帆风顺：水膜控制、气泡消除、液体回收、防污染 ... 每一个工程问题都是硬骨头，但他们成功了。

2004 年，ASML 推出了第一台浸润式光刻机原型。效果炸裂，直接碾压 157nm 方案，而且成本更低，兼容性更好。半导体行业大概也就集体沉默了三秒钟，然后开始疯狂转向。英特尔，三星 ... 全球的芯片制造商排着队要买 ASML 的新机器。157nm 路线一夜之间从"行业共识"变成了"弃儿"。

最惨的当然是尼康 -- 这家统治了光刻领域几十年的日本巨头，为自己的错误选择付出了承重的代价。短短几年，光刻机市场上再也看不到尼康的身影。长江后浪推前浪，不是后浪太强，而是前浪太浪。如果它当时能及时止损，忘记过去，只看将来，也许还能继续统领几十年。

这也有点像我在《真实游戏 3》最后提到的投资哲学，很多时候我们站在十字路口，判断该往哪带走的时候，我们需要忘记来时的路，专注于前方有什么。背着武林高手的包袱，是学不会太极的。

水滴

就在摩尔定律马上就要放缓甚至停滞不前的时候，林本坚用一滴水给它续了命。从此浸润式光刻一路势如破竹，用 193nm 光源推动了光刻机六个世代（65nm -> 45nm -> 32nm -> 22nm -> 14nm) 的发展，一路撑到 EUV 光刻机接棒。

林本坚当然也得到了他应得的荣誉。IEEE Cledo Brunetti Award，未来科学大奖，台湾"中研院"院士，美国国家发明家名人堂。80 岁时他还在清华大学（新竹）担任半导体学院的特聘讲座教授。但比起这些头衔，更值得记住的是他的一句话：“最难的不是想到这个方案，而是说服所有人尝试这个方案。”

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